SIOx 막 특성 및 장단점

PECVD로 만들수 있는 막질 중에 저굴절률을 구현할 수 있는 대표적인 막으로 SIOX 막을 꼽을 수 있다.

SIOX막의 간단한 특징에 대해서 한번 알아보자.

 

SIOX 막

1) 굴절률

SIOX 는 O2 가 많이 들어가 있어서 1.4 이하의 저굴절률을 생성하는데 유리하다.

2) N2O/SiH4
SIOX 의 성질을 가장 좌우하는 것이 바로 N2O와 SIH4의 유량 비율이다. 해당 Ratio가 높을 수록 SIOX막의 산화막 성질이 강해지는 경향이 있다.

3) 경도
SiNX에 비해 경도, 치밀함, 등이 떨어지기 때문에 Passivation 용으로 SINX 보다는 좋지 않은 편이다. 하지만 SiNX에서 발생하는 Stress를 줄이기 위한 용도로 SiOX가 쓰이기도 한다.

4) Step Coverage
SIOX 막은 Step Coverage가 좋다는 장점이 있다 때

5) O2 Diffusion
SiOx를 Passivation으로 사용 시 내부의 산소가 Diffusion이 되어 소자에 영향을 줄 수 있는 가능성이 있으며 이는 막의 두께에 비례하는 경향이 있다.